ガラスの破片がワーフェルを傷つけるのを防ぐ：ランプが故障した時でもワーフェルをきれいに保つ方法 高負荷の半導体製造環境では、赤外線ランプが突然破損するのは本当に厄介な問題です。石英管が壊れると、単に加熱が停止するだけでなく、破裂してしまいます。その結果、ガラスの破片や化学物質がワーフェルの表面に散...

なぜ、すべてのウェーハ用IRセンサーに対してストレステストを行うのか？ ウェーハの製造においては、わずかな電気的なアークが発生するだけで、一括りのシリコンが台無しになってしまいます。これは最悪の事態です。そのため、私たちは「抽出検査」を信じていません。私たちの工場から出荷されるすべてのランプやセン...

ウェーハの硬化処理におけるランプの故障対応 高負荷でウェーハの硬化処理を行っていると、ランプが壊れるというのは単なる面倒事や少しの停止時間以上の問題です。それはまさに悪夢です。 もし石英管が破裂すれば、ガラスの破片やハロゲン成分がシリコン表面に降り注ぎます。そうなると、そのロット全体が台無しになっ...

ウェーハ加工における電力消費と二酸化炭素排出量の削減 正直に言って、半導体製造工場は莫大な電力を消費する場所です。もし二酸化炭素排出量を削減したいのであれば、ウェーハをどのように加熱しているかを見直す必要があります。 長年にわたり、私たちは抵抗式ヒーターを使用してきました。しかし問題点は、ウェーハ...

ウェーハを加熱する際に、状況を冷静かつ安全に保つ方法 化学的な洗浄処理を行う際にウェーハを加熱するとき、まるで綱渡りをしているようなものです。仕事を遂行するためには十分な熱が必要ですが、力を入れすぎると発火のリスクが生じます。可燃性の溶剤の近くで一般的な赤外線ランプを使用するのは危険だけでなく、重...

破片の発生を防ぐ：IR乾燥処理中にウェーハを清潔に保つ方法 MEMSセンサーの製造を行っている人なら、乾燥工程が最も問題が起こりやすい段階だということはご存知でしょう。 想像してみてください：赤外線ランプが過度な負荷を受けて破裂すると、ガラスの破片やタングステンフィラメントがウェーハに降り注ぎます...

CMP後の洗浄工程では、微小な水滴が残ります。もし乾燥プロセスにバラつきがあれば、それらの水滴が欠陥の原因となります。温度を1度でも変えるだけで、次の焼成処理におけるフォトレジストの挙動が変わってしまいます。加熱中に粒子が発生すれば、歩留まりが低下します。したがって、適切な温度管理が不可欠です。...

ウェーハの乾燥処理は、単なる受動的な工程ではありません。これは、パターンの形状が確定する前の最後の加熱段階です。わずかな水分が残っていたり、ソフトベイクやハードベイクの際に温度制御が乱れると、フォトレジストの表面に問題が生じたり、端に不純物が付着したり、寸法に変動が生じたりします。太陽電池用ウェー...

ウェーハの薄化処理は、熱に敏感なプロセスです。適切な熱管理が行われないと、シリコンが割れてしまいます。また、表面の温度が2℃変動するだけでも、応力の不均一が生じ、その結果、歩留まりの低下につながります。私たちは、このような制約を考慮して赤外線加熱装置を設計しました。つまり、ウェーハに与える熱を精密...