팹에서의 포토레지스트 가열 과정은 단순한 단계가 아니라, 일종의 ‘열적 상호작용’에 해당합니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 시에 설정된 온도에서 2°C만 벗어나도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 그래서 우리는 계속해서 반복되는 가열 과정에서도 온도를 정확하게...

공정 현장에서 포토레지스트 베이크는 단순한 공정 단계가 아니다. 이것이 바로 관문이다. 단 한 번의 온도 이탈, 한 번의 입자 발생으로 많은 웨이퍼를 잃을 수 있다. 우리는 이 관문을 지속적으로 차단하기 위해 팹 램프용 석영 유리 쉴드를 제작했다. 중요한 핵심 사항...