用于晶圆干燥的卤素红外发射器

在300 mm产线上，旋转干燥机循环结束时晶圆依然潮湿——水分滞留在结构中，边缘形成水珠。用传统热板加热，会面临加热速率慢且不均匀的问题，导致水珠残留。选择快速风吹干则容易引入颗粒。无论哪种方法，下一层光刻都可能因为一个微小的污染颗粒而影响良率。 晶圆干燥不是“可有可无”的工序。这是一个受控的水分...