Di kilang pengeluaran bateri jenis solid-state ini, perubahan suhu semasa proses pemprosesan bateri bukan sekadar isyarat yang terpapar pada graf. Perubahan suhu ini menyebabkan pembaziran wafer, mengurangkan kecekapan penggunaan tenaga, dan menyukarkan proses penjadualan kerja. Tempoh masa yang diperlukan untuk memproses bahan fotoresist juga sangat singkat. Selain itu, antara muka lapisan pelindung dan elektrolit memerlukan suhu yang tetap. Jika pemanas tidak dapat mengekalkan suhu yang seragam di seluruh permukaan substrat, maka kualiti bateri akan menjadi tidak stabil.
Apa yang penting dari segi teknikal
Pemanas yang digunakan dalam proses pengeluaran bateri jenis solid-state ini menggunakan sumber cahaya inframerah gelombang pendek (NIR) yang terdapat dalam modul haba yang diperkuat dengan kuarsa. Hasilnya ialah suhu yang seragam sebanyak ±0.1°C di seluruh kawasan aktif wafer, dengan kestabilan suhu sebanyak ±0.2°C semasa proses pemprosesan. Kelajuan kawalan suhu mencapai 1°C/s, jadi profil suhu yang dihasilkan akan sesuai dengan spesifikasi yang ditetapkan, bukan disebabkan oleh perbezaan suhu di bahagian tertentu.
Pemanas ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Ia beroperasi dengan lancar, tanpa penghasilan zarah berbahaya, iaitu kurang dari 1 zarah/ft³ pada saiz 0.1 µm semasa operasi normal. Operasi selama 24 jam dapat dilakukan dengan adanya sistem kawalan dua litar, dan jangka hayatnya melebihi 50,000 jam. Jika perlu dibaiki, lampu modular dan komponen pengganti yang boleh diganti dengan mudah dapat meminimumkan masa henti operasi.
Mengapa ia berkesan
Dalam proses litografi, unit yang sama digunakan untuk proses pemprosesan fotoresist, jadi tidak perlu menggunakan unit tambahan. Proses peralihan antara proses pemprosesan menjadi lebih cepat, dan risiko ketidakseragaman suhu dapat dikurangkan. Dalam kes bateri jenis solid-state, unit ini membantu proses penyatuan lapisan-lapisan yang ada, tanpa menyebabkan masalah seperti tepi yang panas atau bahagian yang sejuk. Ini seterusnya membantu mengekalkan rintangan elektrik yang stabil dan mengurangkan risiko terjadinya pemisahan lapisan.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana cahaya NIR dapat sampai terus ke permukaan yang ingin diproses, bukan ke dinding ruang pemprosesan. Ini bermakna jumlah bahan yang terbuang berkurangan, dan proses penyesuaian semula juga berkurangan. Akibatnya, kualiti produk tetap stabil dari satu syif ke syif yang lain.
Perkara yang perlu diketahui
Pemanas ini boleh disambungkan ke sistem standard menggunakan RS-485 dan SECS/GEM. Saiznya juga sesuai dengan platform biasa. Dari keadaan sejuk, ia akan mencapai kestabilan suhu dalam masa 3–5 minit. Anda perlu merancang masa yang sesuai untuk memanaskan pemanas tersebut sebelum memulakan proses pemprosesan.
Isu EMC juga perlu diambil kira; kabel berarus tinggi perlu disambungkan dengan betul dan dilindungi. Ini dapat membantu mengelakkan gangguan bunyi yang mungkin berlaku pada alat-alat lain di sekitarnya.