Pada permukaan litograf, proses pemanasan bahan fotoresist memerlukan ketepatan yang tinggi. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan mengubah dimensi kritikal bahan tersebut, dan seterusnya merosakkan struktur dinding sisi bahan tersebut. Apabila wafer mengalami perbezaan suhu yang tidak seragam, ia akan menyebabkan kerugian hasil pengeluaran, keperluan untuk memproses semula bahan tersebut, atau pembaziran keseluruhan kuantiti bahan yang digunakan. Kami telah mencipta pemanas berbentuk laser diod untuk mengekalkan suhu wafer pada tahap ±0.1°C, kerana itulah had yang dapat ditanggung oleh proses pengeluaran.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan sumber laser diod jenis NIR dengan sistem kawalan tertutup, agar haba tersebar dengan cepat dan tepat, tanpa menyebabkan kawasan tertentu pada wafer menjadi terlalu panas. Hasilnya, suhu di kawasan yang dipanaskan kekal seragam pada tahap ±0.1°C, dan kebolehliputan proses juga kekal stabil pada tahap ±0.05°C antara setiap kumpulan wafer yang diproses. Platform ini direka untuk digunakan di bilik bersih dari kelas 1 hingga kelas 100. Bahan-bahan yang digunakan serta permukaan yang digunakan dipilih agar tidak ada zarah-zarah yang terbentuk semasa proses pemanasan dan penyejukan. Penghantaran tenaga juga kekal stabil sepanjang masa; unit pemanas ini boleh beroperasi selama lebih dari 5,000 jam dengan penurunan prestasi kurang dari 5%.
Mengapa ini penting dalam proses fotoresist
Ketepatan suhu sangat penting untuk proses penghapusan pelarut, proses pengikatan molekul, dan juga untuk meningkatkan ketahanan bahan terhadap proses etching. Dengan penggunaan pemanas laser diod, kita dapat mengawal suhu pada setiap langkah pemanasan, sehingga variasi dimensi kritikal bahan dapat dikurangkan. Selain itu, masa pemanasan juga dapat dikurangkan kerana respons termal yang cepat, penggunaan tenaga yang lebih rendah kerana tenaga yang digunakan dikawal dengan tepat, dan gangguan pembaikan yang lebih sedikit. Pemanas ini boleh digunakan bersama-sama dengan modul pelapisan dan pemanasan yang sudah ada, sehingga kita dapat memastikan kawalan proses yang lebih baik tanpa perlu mengubah reka bentuk asal.
Apa yang perlu dirancang
Proses pemasangan melibatkan penyesuaian laluan cahaya dan memastikan sistem pengudaraan serta penyejukan berfungsi dengan baik. Pemanas ini akan berfungsi dengan lebih baik jika keadaan bahagian belakang wafer tetap konsisten – perubahan pada lapisan, sisa-sisa bahan, atau kelengkungan wafer akan mengganggu proses pemanasan. Anda perlu merancang ujian awal untuk mengetahui profil suhu pada wafer anda, dan menyesuaikan sistem kawalan agar sesuai dengan kelajuan pengeluaran anda.