เครื่องปล่อยรังสีอินฟราเรดฮาโลเจนสำหรับการอบแห้งเวเฟอร์
บนสายการผลิต 300 mm หลังจากที่ spin dryer หยุดหมุน wafer ยังคงเปียกอยู่—น้ำติดอยู่ในฟีเจอร์ต่าง ๆ น้ำจับตัวเป็นหยดที่ขอบ ถ้าใช้ hot plate แบบธรรมดา...
ความร้อนความแม่นยำสูงสำหรับแผ่นเวเฟอร์ IR
Out on the fab floor, the lithography cluster keeps moving, no pause button. The track feeds the wafer, the resist spins, the edge bead gets...