Нагреватель для сушки пластин после процессаCMP
В процессе очистки после CMP на поверхности пластины остаются микрокапли влаги. Если профиль сушки изменится, эти капли могут превратиться в дефекты....
Лампа для сушки пластин солнечных элементов
При сушке пластин в производственных линиях речь идет не просто о процессе, который можно контролировать вручную – это последний этап термической...
Элемент нагрева для окисления ваферов
На производственном участке очень быстро понимаешь, что даже небольшие отклонения температуры могут привести к серьезным проблемам. Например,...
Галогенный ИК излучатель для сушки пластин
На 300 мм линии цикл центрифужной сушки завершается, а пластина всё ещё влажная — вода застряла в рельефах, образуются капли на краях. Использование...
Высокоточный нагрев для ИК обработки пластин
На производственном участке литографический кластер работает без остановок. Трек подаёт пластину, резист вращается, удаляется кромочный бисер, и...