Di bahagian proses litografi, proses “soft bake” bukan sekadar langkah pemanasan biasa. Ia merupakan syarat penting yang membantu menstabilkan profil bahan fotoresist, menghilangkan cecair berlebihan, serta mengawal ketebalan garisan pada permukaan wafer. Apabila lampu tersebut mula berfungsi dengan tidak efektif, ia akan dapat dikesan dengan cepat – contohnya, adanya endapan di tepi permukaan wafer, atau masalah lain yang boleh merosakkan wafer sebelum proses pengukuran dilakukan. Kami telah mencipta lampu “soft bake” khas untuk mengatasi masalah ini.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami menggunakan sumber cahaya halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di dalam selubung kuarsa. Sumber cahaya ini direka untuk memberikan pemanasan yang cepat dan lokal, dengan inersia termal yang rendah. Ini membolehkan suhu permukaan wafer kekal seragam dalam lingkungan ±0.1°C, dan suhu tersebut dapat dipertahankan setiap kali proses berulang. Reka bentuk ini juga sesuai untuk bilik bersih kelas 1–100, kerana ia dapat mengurangkan pelepasan gas dan memastikan tiada zarah terbentuk semasa operasi. Dengan ini, prestasi lampu tetap stabil sepanjang masa, tanpa gangguan yang tidak dijangka, dan intensiti cahaya tetap stabil walaupun selepas 5,000 jam penggunaan, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.
Yang penting ialah proses “soft bake” harus memberikan suhu yang sama setiap kali ia digunakan. Jika tidak, bahan fotoresist tidak akan mengalir secara konsisten, dan proses pengolahan wafer akan menjadi tidak tepat. Lampu ini membantu menstabilkan proses tersebut, sehingga meminimumkan kerja ulang, mempercepatkan masa pengeluaran, dan meningkatkan kadar kelulusan produk.
Penggunaan tenaga juga dapat dikawal dengan baik, kerana lampu ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mempertahankannya tanpa terlalu panas. Selain itu, kerana lampu ini mempunyai jangka hayat yang panjang, penggantian lampu menjadi jarang diperlukan, masa tunggu alat pun berkurangan, dan stok alat ganti juga berkurangan.
Pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian geometri reflektor agar sesuai dengan profil haba stesen pembakaran. Gantikan lampu tanpa perlu melakukan penilaian semula kawasan yang terlibat, agar keseragaman suhu dapat dipertahankan. Lakukan ujian pendek setelah lampu diganti, dan pastikan sambungan dan komponen lain sesuai dengan voltan dan arus yang diperlukan oleh lampu tersebut.
Anggaplah selubung kuarsa sebagai bahan yang mudah rosak – rawatlah ia dengan hati-hati, dan pastikan permukaan tempat pembakaran bebas daripada sisa-sisa, agar prestasi lampu tetap optimal.