Lampa pro pečení v kontrolované atmosféře
V prostředí litografie oba víme, že kroky spojené s vypalováním nejsou pouze termické – jedná se také o faktory ovlivňující kvalitu výsledného...
Lampa na měkké zahřívání fotorezistentu
V procesu litografie není proces „měkkého zahřívání“ jen prostým předehřevem. Jedná se o důležitou podmínku, která určuje profil fotorezistu,...