Dalam proses pengeringan wafer, ia bukan sekadar proses pasif yang boleh diabaikan. Ia merupakan langkah terakhir dalam proses pemanasan sebelum struktur wafer menjadi stabil. Jika masih ada sedikit kelembapan yang tinggal, atau jika proses pembakaran tidak berjalan dengan lancar, maka ia akan menyebabkan masalah seperti lapisan fotoresist yang tidak rata, ketidakstabilan dimensi wafer, dan sebagainya. Lampu pengeringan wafer untuk sel suria direka khusus untuk mengelakkan masalah-masalah ini.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan pemancar NIR untuk memindahkan tenaga secara cepat dan langsung ke dalam wafer. Ini membantu mengurangkan kelewatan haba dan mengekalkan kestabilan proses. Sistem ini mampu mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, agar profil pembakaran tetap konsisten dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Keserasian dengan bilik bersih juga sangat penting; sistem ini tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh merosakkan lapisan fotoresist. Prestasi lampu ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%, yang bermaksud kurangnya keperluan untuk penyesuaian semula dan masa henti yang tidak dijangka.
Mengapa ia sesuai untuk kilang wafer suria
Dalam kilang wafer suria yang menggunakan teknologi litografi, lampu ini digunakan secara langsung dalam proses pengeringan/ pembakaran, tanpa perlu mengubah prosedur yang digunakan. Kawalan haba yang lebih baik memendekkan masa yang diperlukan untuk proses tersebut, mengurangkan sisa produk yang perlu dibuang, dan memastikan proses berjalan lancar. Kecekapan NIR serta kawalan yang tepat terhadap masa pemanasan membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Selain itu, jangka hayat pemancar yang panjang memudahkan pengurusan alat ganti dan memanjangkan tempoh penyelenggaraan. Hasilnya, proses penghasilan wafer menjadi lebih stabil, lapisan fotoresist berfungsi dengan baik, dan dimensi wafer tetap konsisten.
Kelemahannya
Proses pengeringan menggunakan NIR memerlukan pandangan yang jelas antara lampu dan wafer. Oleh itu, geometri wafer dan faktor-faktor lain perlu diambil kira semasa reka bentuk peralatan tersebut. Proses penyetelan memerlukan ujian singkat untuk menentukan kuasa, masa pemanasan, dan sudut sinar yang sesuai untuk ketebalan wafer serta lapisan anti-reflektifnya. Setelah disetel, sistem akan berfungsi dengan baik tanpa memerlukan penyesuaian lagi. Inilah yang memungkinkan keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C dalam proses penghasilan wafer.