Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, cả chúng ta đều biết rằng các bước xử lý nhiệt không chỉ đơn thuần là việc tăng nhiệt độ mà còn có vai trò quan trọng trong việc đảm bảo chất lượng sản phẩm. Sự thay đổi nhiệt độ chỉ 2°C trong quá trình xử lý nhiệt cũng có thể gây ra sự khác biệt về kích thước của các chi tiết trên wafer. Còn những điểm nóng do quá trình xử lý nhiệt gây ra thì lại là nguyên nhân khiến chất lượng sản phẩm giảm sút. Chúng tôi đã thiết kế chiếc đèn xử lý nhiệt kiểm soát được môi trường xung quanh, nhằm loại bỏ những yếu tố gây biến động này.
Những yếu tố quan trọng trong quy trình xử lý nhiệt
Chiếc đèn này sử dụng ánh sáng hồng ngoại bước sóng ngắn, được bao bọc trong lớp thủy tinh thạch anh. Điều này giúp việc gia nhiệt diễn ra nhanh chóng và đồng đều, mà không gây ra sự biến động quá mức về nhiệt độ. Chúng tôi duy trì mức độ đồng đều của nhiệt độ trên wafer ở mức ±0,1°C, và theo dõi mức độ lặp lại của quy trình xử lý nhiệt cho từng lô sản phẩm. Môi trường xung quanh được kiểm soát chặt chẽ, vì vậy mức độ nhiệt độ vẫn ổn định, bất kể bạn sử dụng khí N₂, khí khô hay hỗn hợp khí có hàm lượng oxy thấp.
Không gian trong phòng sạch cũng được thiết kế từ đầu để đảm bảo mức độ sạch cao: hoạt động ở mức độ Class 1–100, với tỷ lệ hạt bụi bằng không – điều này được xác nhận thông qua việc đo lường số lượng hạt bụi trong quá trình hoạt động của đèn. Hệ thống xử lý nhiệt được thiết kế để hoạt động liên tục 24/7, và chúng tôi theo dõi mức độ ổn định của hệ thống trong suốt hơn 5.000 giờ hoạt động.
Tại sao công nghệ này lại hiệu quả trong quy trình xử lý phim fotorezyst
Độ chính xác về nhiệt độ là yếu tố quyết định liệu sản phẩm có cần được sửa chữa hay có thể được gửi đi ngay lập tức. Nhờ đó, chúng ta có thể kiểm soát kích thước của các chi tiết trên wafer một cách chính xác hơn, giảm thiểu các khuyết tật liên quan đến việc không tập trung ánh sáng hay sự xuất hiện của các vết bẩn trên wafer. Độ dày của lớp phim fotorezyst cũng được kiểm soát một cách chính xác sau quá trình xử lý nhiệt. Quy trình xử lý trở nên dễ dàng hơn, vì không còn sự biến động về nhiệt độ ở các vùng khác nhau trên wafer nữa.
Việc sử dụng năng lượng cũng giảm đi – nhiệt độ mong muốn có thể đạt được nhanh chóng, và sau đó được duy trì ổn định mà không có sự dao động. Thời gian dừng máy cũng giảm đi, vì đèn hoạt động một cách ổn định, không có sự biến động bất ngờ nào xảy ra. Việc thay thế linh kiện cũng được lên kế hoạch dựa trên dữ liệu thực tế, chứ không phải dựa trên cảm tính.
Những điều bạn cần lưu ý khi lập kế hoạch
Chiếc đèn này cần có nguồn điện và nguồn khí riêng, phù hợp với kích thước và cấu trúc của thiết bị. Việc lắp đặt khá đơn giản, nhưng bạn cần kiểm tra lại mức độ ổn định của quy trình xử lý nhiệt mỗi khi thay đổi kích thước wafer, loại hóa chất sử dụng hoặc công thức xử lý nhiệt. Bạn cần thực hiện một vài lần thử nghiệm để xác định chính xác các thông số cần thiết và đảm bảo sự đồng đều của quy trình xử lý nhiệt trên tất cả các loại sản phẩm.