Лампа для випікання в контрольованій атмосфері

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

На поверхні платформи для літографії ми обидва знаємо, що процес висушування не є просто термічним процесом – це також фактор, який впливає на якість продукту. Зміна температури на 2°C під час процедури м’якого висушування відразу ж призводить до зміни значень CDU. А якщо йдеться про процедуру жорсткого висушування? Це справжній „убивця“ якості – вона спричиняє втрату якості продукту прямо на рівні пластини. Ми створили лампу для контрольованого висушування, щоб усунути цю невизначеність.

Що є важливим у цьому процесі
Лампа використовує короткочастотне інфрачервоне світло в кварцовій оболонці; це дозволяє досягти швидкого нагрівання поверхні без перегріву. У всій зоні висушування ми підтримуємо однорідність температури на рівні ±0,1°C. Крім того, ми контролюємо повторюваність результатів для кожної партії продукції, а не лише для кожного окремого процесу. Атмосфера в приміщенні контролюється, тож профіль висушування залишається стабільним незалежно від того, чи використовується N₂, сухе повітря чи суміш з зниженим вмістом кисню.

Лампа для м якого випалювання фотолаку

Fri, 26 Jun 2026 05:04:06 +0800

На етапі літографії процедура „м’якого випалювання“ ніколи не є просто способом підготовки обладнання. Це умова, яка дозволяє фіксувати параметри фоточутливої плівки, видаляти розчинники та забезпечувати контроль товщини ліній на поверхні пластини перед подальшими операціями. Коли лампа починає погано працювати, це швидко стає помітним – з’являються нерівності на краях пластини, а також інші проблеми, які можуть пошкодити пластину ще до того, як метрологічні пристрої виявлять ці проблеми. Ми розробили лампу для „м’якого випалювання“, яка допомагає усунути ці проблеми.

Bake on Professional IR Heating Lamps

Лампа для випікання в контрольованій атмосфері

Лампа для м якого випалювання фотолаку