http://ir-heat-lamp-pro.com/uk/tags/%D0%BF%D0%BE%D1%81%D1%82/ Recent content in Пост on Professional IR Heating Lamps Hugo uk Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/uk/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/uk/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Обігрівач для сушіння пластин після процедури CMP"></p> <p>Під час процедури післяCMP залишаються мікрокраплі вологи, які можуть стати дефектами, якщо профіль сушіння зміниться. Навіть незначна зміна температури може призвести до зміни поведінки фотоотповідача під час подальшого оброблення. Крім того, утворення частинок під час нагрівання також негативно впливає на якість продукту. Необхідно, щоб температура залишалась в межах заданих значень та щоб у приміщенні панувала чистота.</p> <p><strong>Що є важливим у цій системі</strong><br> Ми розробили цей нагрівач саме для вузьких параметрів, які вимагає процедура післяCMP. Галогенні лампи забезпечують швидку та стабільну реакцію, а кварцове скло ізолює камеру від корпусу лампи, що допомагає зменшити кількість частинок. Рівномірність температури по всій поверхні пластини становить ±0,1°C, а однаковість результатів при кількох процедурах – більше ніж ±0,2°C. Цілеві значення температури контролюються з високою точністю як під час м’якого, так і жорсткого сушіння, що дозволяє зберігати критичні параметри продукту. Система призначена для використання в чистих приміщеннях класу 1–100; кожен матеріал обирається з метою мінімізації випаровування та утворення частинок. Сила живлення підбирається відповідно до характеристик платформи, а інтерфейс розроблений так, щоб можна було легко його інтегрувати в існуюче обладнання.</p>