Віфлеєм on Professional IR Heating Lamps

Обігрівач для сушіння пластин після процедури CMP

Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800

Під час процедури післяCMP залишаються мікрокраплі вологи, які можуть стати дефектами, якщо профіль сушіння зміниться. Навіть незначна зміна температури може призвести до зміни поведінки фотоотповідача під час подальшого оброблення. Крім того, утворення частинок під час нагрівання також негативно впливає на якість продукту. Необхідно, щоб температура залишалась в межах заданих значень та щоб у приміщенні панувала чистота.

Що є важливим у цій системі
Ми розробили цей нагрівач саме для вузьких параметрів, які вимагає процедура післяCMP. Галогенні лампи забезпечують швидку та стабільну реакцію, а кварцове скло ізолює камеру від корпусу лампи, що допомагає зменшити кількість частинок. Рівномірність температури по всій поверхні пластини становить ±0,1°C, а однаковість результатів при кількох процедурах – більше ніж ±0,2°C. Цілеві значення температури контролюються з високою точністю як під час м’якого, так і жорсткого сушіння, що дозволяє зберігати критичні параметри продукту. Система призначена для використання в чистих приміщеннях класу 1–100; кожен матеріал обирається з метою мінімізації випаровування та утворення частинок. Сила живлення підбирається відповідно до характеристик платформи, а інтерфейс розроблений так, щоб можна було легко його інтегрувати в існуюче обладнання.

Елемент нагріву для оксидування віферів

Fri, 19 Jun 2026 06:06:06 +0800

На виробничій лінії швидко з’ясовується, що навіть незначні зміни температури можуть призвести до серйозних проблем. Зміна температури на рівні 0,5°C під час процесу оксидації може пошкодити структуру оксидного шару. У процесі літографії навіть незначна похибка температури призводить до змін товщини ліній на поверхні диску. Теплова стабільність є критично важливою – це основа всього процесу.

Що насправді має значення Ми використовуємо елементи нагріву для оксидації на основі кварцевих випромінювачів короткохвильового інфрачервоного світла – це забезпечує швидку реакцію та низьку теплову щільність. Система забезпечує стабільність температури на рівні ±0,1°C на всій поверхні диску, а система контролю температури підтримує необхідний рівень температури навіть при зміні навантаження. Цей пристрій підходить для чистих приміщень класу 1–100; матеріали та компоненти, які використовуються, спрямовані на мінімізацію утворення частинок та викидів газів. Процес висушування фотополімеру відбувається в межах суворих толеранцій, що дозволяє зберегти точність контролю параметрів та зменшити кількість дефектів.

Нагрівання для потовщення пластини за допомогою інфрачервоного випромінювання

Wed, 17 Jun 2026 15:51:30 +0800

Під час процедури тонкошарового нанесення на пластині важливо забезпечити контрольоване нагрівання. Тонкий кремнієвий шар може тріснути, якщо не дотримуватися правил терморегулювання. Навіть зміна температури на 2°C на поверхні пластини може призвести до неоднорідності напруги, що згодом проявляється у зниженні якості продукції. Наша система інфрачервоного нагріву розроблена з урахуванням цих обмежень: контрольоване, швидке та повторюване нагрівання, при цьому температура на поверхні пластини залишається стабільною.

Важливими є фізичні принципи та механізми контролю. Система використовує інфрачервоні хвилі, які збігаються з сильними зонами поглинання кремнію, тож енергія швидко передається, при цьому температура основи пластини залишається мінімальною. Температура вимірюється безпосередньо на поверхні пластини та контролюється в межах ±0,1°C. Це дозволяє досягти більшої стабільності під час процесу нагрівання. Умови в чистій кімнаті також є важливими – обладнання розроблене для роботи в класі чистоти 1–100, а матеріали та герметизуючі елементи допомагають зведення кількості частинок до мінімуму, що полегшує перевірку якості продукції відповідно до стандартів ISO Class 5.