http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D1%81%D1%82/ Recent content in Пост on Professional IR Heating Lamps Hugo ru Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Нагреватель для сушки пластин после процессаCMP"></p> <p>В процессе очистки после CMP на поверхности пластины остаются микрокапли влаги. Если профиль сушки изменится, эти капли могут превратиться в дефекты. Даже небольшое изменение температуры может повлиять на поведение фотополимера в процессе последующей обработки. Появление частиц во время нагрева также снижает качество продукции. Необходимо, чтобы температура оставалась в пределах установленных параметров и чтобы среда в камере была стерильной.</p> <p><strong>Что действительно важно</strong> Мы разработали этот нагреватель с учетом ограничений, предъявляемых к процессу очистки после CMP. Галогенные лампы обеспечивают быструю и стабильную реакцию, а кварцевое стекло защищает камеру от воздействия лампы, тем самым снижая количество частиц. Равномерность температуры по всей поверхности пластины составляет ±0,1°C, а точность повторяемости процесса — более ±0,2°C. Установленные параметры контролируются с высокой точностью как при мягкой, так и при интенсивной обработке, что позволяет сохранять нужные размеры и формы изделий. Система рассчитана для использования в комнатах класса чистоты 1–100. Все материалы выбираются с учетом минимизации выделения газов и частиц. Мощность нагревателя соответствует требованиям платформы, а интерфейс позволяет легко интегрировать его в существующее оборудование.</p>