Нагрев для тонкой обработки вафер с использованием инфракрасного излучения

Wed, 17 Jun 2026 15:51:30 +0800

При процедуре уменьшения толщины пластины речь идет о процессе, чувствительном к температуре. Кремний может треснуть, если температурный режим не контролируется должным образом. Даже небольшое изменение температуры на поверхности на 2°C может привести к неоднородности напряжений, что в конечном итоге сказывается на качестве продукции. Мы разработали нашу инфракрасную систему нагрева с учетом этих ограничений: она обеспечивает контролируемое, быстрое и точное нагревание пластины без возникновения горячих точек.

Важны физические принципы, лежащие в основе работы системы, а также ее способность к точному контролю температуры. Система использует длины волн в области ближнего инфракрасного спектра, которые соответствуют диапазонам сильного поглощения света кремнием. Благодаря этому энергия быстро передается в пластину, при этом температура подложки почти не повышается. Температура измеряется непосредственно на месте, и ее значение поддерживается в пределах ±0,1°C. Это позволяет достичь высокой стабильности процесса при выполнении операций уменьшения толщины пластины. Условия в чистой комнате также имеют большое значение — оборудование разрабатывается для использования в условиях класса 1–100; материалы и уплотнители минимизируют образование частиц, что делает процедуры проверки стандартов ISO класса 5 более простыми.

Истончение on Professional IR Heating Lamps

Нагрев для тонкой обработки вафер с использованием инфракрасного излучения