<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Государство on Professional IR Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/tags/%D0%B3%D0%BE%D1%81%D1%83%D0%B4%D0%B0%D1%80%D1%81%D1%82%D0%B2%D0%BE/</link>
		<description>Recent content in Государство on Professional IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:46:10 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/tags/%D0%B3%D0%BE%D1%81%D1%83%D0%B4%D0%B0%D1%80%D1%81%D1%82%D0%B2%D0%BE/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для обработки твердотельных аккумуляторов</title>
				<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/posts/solid-state-battery-processing-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:46:10 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-lamp-pro.com/ru/posts/solid-state-battery-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для обработки твердотельных аккумуляторов&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной линии при обработке стеков твердотельных батарей тепловые колебания не являются просто незначительными отклонениями на графике. Они приводят к потере ваферов, снижают эффективность использования ресурсов и усложняют планирование процесса производства. Время необходимое для разогрева фоторезиста очень короткое, а на границах между слоями и электролитом требуется высокая стабильность температуры. Если нагреватель не может поддерживать однородную температуру по всей поверхности подложки, это приводит к снижению качества изделий.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет техническое значение&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы разработали этот нагреватель для обработки твердотельных батарей, используя источники коротковолнового инфракрасного излучения в тепловом модуле на основе кварца. Благодаря этому достигается однородность температуры на уровне ±0,1°C по всей активной поверхности вафера, а стабильность температуры составляет ±0,2°C во время процесса нагрева. Скорость изменения температуры составляет 1°C/с, что позволяет точно следовать заданным параметрам нагрева.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
