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		<title>Oxidação on Professional IR Heating Lamps</title>
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		<description>Recent content in Oxidação on Professional IR Heating Lamps</description>
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				<title>Elemento de aquecimento por oxidação de wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Elemento de aquecimento por oxidação de wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na fábrica de produção, aprende-se rapidamente que pequenas variações de temperatura podem se transformar em grandes problemas. Uma variação de 0,5°C durante o processo de oxidação pode prejudicar a integridade do óxido responsável pela proteção da superfície do wafer. Na litografia, mesmo uma pequena variação na temperatura durante o processo de cura do fotoresist resulta em variações no espessura das linhas desenhadas. A repetibilidade térmica não é algo opcional; ela faz parte do próprio processo de produção.&lt;/p&gt;</description>
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