Lâmpada de cozimento em atmosfera controlada

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

No ambiente de litografia, ambos sabemos que os passos de cozimento não são apenas de natureza térmica – eles também influenciam diretamente a qualidade do produto final. Uma variação de 2°C no processo de cozimento leve resulta imediatamente em uma dispersão nas características do wafer. Já um ponto quente durante o processo de cozimento intenso pode causar perdas significativas na qualidade do wafer. Por isso, desenvolvemos a Lâmpada de Cozimento em Ambiente Controlado, para eliminar essa variabilidade.

Lâmpada de cozimento suave para fotoresistente

Fri, 26 Jun 2026 05:04:05 +0800

No processo de litografia, o “soft bake” não é apenas um procedimento de aquecimento preliminar. Trata-se de uma condição essencial que permite definir com precisão o perfil do fotoregressor, eliminar os solventes e garantir o controle da espessura das linhas a serem criadas. Quando a lâmpada começa a funcionar de forma inadequada, percebemos isso rapidamente: surgem problemas nas bordas dos wafers, e há desvios que podem danificá-los muito antes mesmo que a medição indique tais problemas. Criamos nossa lâmpada de “soft bake” para eliminar essa variabilidade.

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Lâmpada de cozimento em atmosfera controlada

Lâmpada de cozimento suave para fotoresistente