Verhitter voor het drogen van CMP wafers

Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800

Tijdens het proces na CMP blijven er mikrodruppels over die defecten kunnen veroorzaken als het droogproces niet perfect verloopt. Als de temperatuur zelfs maar één graad verschilt, verandert het gedrag van de fotoresist tijdens het volgende droogproces. Bovendien leidt het ontstaan van deeltjes tijdens het opwarmen tot een verminderde kwaliteit van het product. Er is dus behoefte aan een temperatuur die binnen de benodigde grenzen blijft en die bovendien schoon blijft.

Wat belangrijk is We hebben deze heater ontworpen voor de beperkte mogelijkheden die er na CMP zijn. Halogeenlampen zorgen voor een snelle en stabiele reactie, terwijl het kwartsvenster de kamer scheidt van de lamp zelf, zodat het aantal deeltjes minimaal blijft. De temperatuuruniformiteit over het hele plakje blijft binnen ±0,1°C, met een herhalbaarheid van meer dan ±0,2°C tussen verschillende batches. De instellingen worden nauwkeurig gereguleerd, zodat de belangrijke dimensies en profielen constant blijven. Het systeem is geschikt voor gebruik in schone kamers van klasse 1–100. Alle gebruikte materialen zijn zodanig gekozen dat uitgasing en het vrijkomen van deeltjes wordt geminimaliseerd. De benodigde energie wordt aangepast aan de behoeften van het apparaat, en de interface is zo ontworpen dat het gemakkelijk kan worden geïntegreerd in bestaande apparaten.

Post on Professional IR Heating Lamps

Verhitter voor het drogen van CMP wafers