Heating element voor waferoxidatie

Fri, 19 Jun 2026 06:06:05 +0800

Op de productielijn leer je al snel dat kleine temperatuurschommelingen kunnen leiden tot grote problemen. Een schommeling van 0,5°C tijdens het oxidatieproces kan de integriteit van de oppervlaktescherming van de chip beschadigen. In de lithografie leiden zelfs kleine fouten in de temperatuurregeling tot variaties in de dikte van de laag die wordt afgezet. Thermische reproduceerbaarheid is geen optioneel kenmerk; het is een essentieel onderdeel van het proces.

Wat er echt toe doet
We gebruiken kwartsemitters met kortegolflengte-infraroodstraling voor het verhitten van de chip. Hierdoor is er een snelle reactietijd en is de warmteafgifte minimaal. Het systeem houdt de temperatuur op een constant niveau van ±0,1°C over de hele chip. De zonecontrole zorgt ervoor dat de gewenste temperatuur behouden blijft, zelfs wanneer de belasting verandert. Dit systeem past in schoonruimtes van klasse 1–100. De gebruikte materialen en verbindingen zijn zo gekozen dat er zo min mogelijk deeltjes worden gegenereerd en er weinig gas vrijkomt. Tijdens het verhitten van de fotoresist worden de temperaturen nauwkeurig geregeld, zodat de kwaliteit van de chip behouden blijft en er minder defecten ontstaan.

Oxidatie on Professional IR Heating Lamps

Heating element voor waferoxidatie