Lamp voor bakken in gecontroleerde atmosfeer

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

Op de lithografielijn weten we allebei dat de bakprocessen niet alleen te maken hebben met warmte – ze zijn ook belangrijk voor het behouden van een hoge kwaliteit van de producten. Een verschil van 2°C tijdens het zachte bakproces heeft meteen invloed op de kwaliteit van het product. Een hotspot tijdens het harde bakproces veroorzaakt echter grote schade aan de kwaliteit van het product. We hebben de Controlled Atmosphere Bake Lamp ontwikkeld om deze variabiliteiten weg te nemen.

Fotorezistent zachte baklamp

Fri, 26 Jun 2026 05:04:06 +0800

Bij het proces van soft baking gaat het nooit alleen om het opwarmen van de componenten. Het is eerder een ‘grensconditie’ die zorgt voor een constante dikte van de fotorest, het verwijdert oplosmiddelen en zorgt voor een goede controle van de dikte van de randen van de componenten. Wanneer de lamp niet meer goed functioneert, merk je dat snel: er ontstaan oneffenheden langs de randen, en de kwaliteit van de producten neemt af, lang voordat de meting dit kan vaststellen. We hebben onze lamp zo ontworpen dat deze deze variabiliteit wegneemt.

Bakken on Professional IR Heating Lamps

Lamp voor bakken in gecontroleerde atmosfeer

Fotorezistent zachte baklamp