http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/tags/wafel/ Recent content in Wafel on Professional IR Heating Lamps Hugo ms Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer selepas proses CMP"></p> <p>Dalam proses pembersihan selepas CMP, haba yang digunakan akan meninggalkan titisan kecil pada permukaan wafer. Titisan-titisan ini boleh menyebabkan kerosakan jika suhu pengeringan berubah. Jika suhu dinaikkan walaupun sedikit sahaja, tingkah laku bahan fotoresist akan berubah. Selain itu, kehadiran zarah-zarah semasa proses pemanasan juga akan menjejaskan kualiti hasil pengeluaran. Oleh itu, suhu perlu dikawal dengan ketat agar ia tetap berada dalam lingkungan yang ditetapkan.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam <a href="https://goldisgood.com">sistem</a> ini</strong><br> Kami mencipta pemanas ini untuk memenuhi keperluan yang sangat spesifik selepas proses CMP. Lampu halogen memberikan respons yang cepat dan stabil, manakala tingkap kuarza pula membantu mengasingkan bilik pengeringan daripada badan lampu, sehingga jumlah zarah di dalamnya dapat dikurangkan. Keseragaman suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, dengan ketepatan yang lebih baik iaitu ±0.2°C. Tetapan suhu dikawal dengan ketat untuk memastikan dimensi dan bentuk wafer kekal stabil. Sistem ini direka untuk digunakan di bilik bersih tahap 1–100, dan setiap bahan yang digunakan dipilih untuk meminimumkan pelepasan gas dan zarah dari permukaan wafer. Kuasa yang digunakan <a href="https://o-yate.com">disesuaikan</a> dengan keperluan platform tersebut, dan antaramuka sistem direka agar dapat digunakan bersama alat-alat yang sudah ada.</p>