<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Diode on Professional IR Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/tags/diode/</link>
		<description>Recent content in Diode on Professional IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 05:51:26 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/tags/diode/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas diod laser semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/posts/semiconductor-laser-diode-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:51:26 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-lamp-pro.com/ms/posts/semiconductor-laser-diode-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas diod laser semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada permukaan litograf, proses pemanasan bahan fotoresist memerlukan ketepatan yang tinggi. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan mengubah dimensi kritikal bahan tersebut, dan seterusnya merosakkan struktur dinding sisi bahan tersebut. Apabila wafer mengalami perbezaan suhu yang tidak seragam, ia akan menyebabkan kerugian hasil pengeluaran, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;keperluan&lt;/a&gt; untuk memproses semula bahan tersebut, atau pembaziran keseluruhan kuantiti bahan yang digunakan. Kami telah mencipta pemanas berbentuk laser diod untuk mengekalkan suhu wafer pada tahap ±0.1°C, kerana itulah had yang dapat ditanggung oleh proses pengeluaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
