Bersih on Professional IR Heating Lamps

Pemanas inframerah untuk bilik bersih

Mon, 27 Jul 2026 06:22:59 +0800

Mengurangkan Pelepasan Karbon Dalam Proses Pembuatan Cip Menggunakan Pemanasan Inframerah

Jika anda pernah berada di bilik bersih, anda pasti tahu betapa sukarnya situasinya. Anda memerlukan haba, tetapi haba tersebut perlu diberikan dengan tepat. Yang paling tidak diinginkan ialah timbulnya debu. Itulah sebabnya kami menggunakan lampu pemanasan inframerah.

Berbeza dengan penggunaan udara panas yang hanya akan menyebabkan zarah-zarah bergerak ke atas wafer, inframerah menggunakan radiasi untuk memanaskan objek tersebut. Ia merupakan cara yang efektif untuk memanaskan bahan secara langsung. Tiada angin, tiada kotoran, dan tiada risiko kawasan silikon tercemar.

Pemanas inframerah untuk ketuhar bilik bersih

Sun, 19 Jul 2026 15:42:23 +0800

Mengurangkan Pelepasan Karbon di Bilik Bersih: Mengapa IR Adalah Pilihan Terbaik

Kebanyakan ketuhar yang digunakan dalam pengeluaran semikonduktor masih bergantung pada kaedah konveksi. Pada dasarnya, udara dipanaskan terlebih dahulu untuk memanaskan wafer tersebut. Kaedah ini lambat dan membazir tenaga. Sejujurnya, ia merupakan cara yang sudah ketinggalan zaman jika kita ingin membina kilang yang mesra alam.

Itulah sebabnya kita melihat peralihan besar ke arah penggunaan haba inframerah (IR).
Rahsianya terletak pada cara tenaga bergerak. Dengan kaedah konveksi, kita perlu menunggu udara menjadi panas terlebih dahulu. Namun dengan IR, tenaga bergerak melalui radiasi elektromagnetik. Tenaga ini sampai terus ke permukaan wafer. Dengan cara ini, kita tidak perlu membazir tenaga untuk memanaskan setiap inci ruang di bilik bersih hanya untuk memproses beberapa wafer sahaja.

Pembaikan peralatan bilik bersih di fabrikasi

Fri, 17 Jul 2026 07:07:50 +0800

Menjaga kebersihan fasiliti kelas 100 dengan sempurna
Jika anda mengendalikan fasiliti kelas 100, anda pasti tahu betapa pentingnya kebersihan di sana. Sekecil zarah debu atau gas yang terhasil daripada elemen pemanas pun boleh merosakkan produk yang dihasilkan. Ia boleh merosakkan wafer dan mengurangkan kadar pengeluaran produk tersebut.

Lampu pemanas biasa tidak sesuai digunakan untuk tujuan ini. Lampu tersebut akan melepaskan bahan kimia dan zarah-zarah berbahaya. Kami memilih untuk menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk mengatasi masalah ini.

Lampu inframerah untuk meja di bilik bersih

Fri, 10 Jul 2026 12:38:21 +0800

Hentikan serpihan kaca: Lindungi wafer anda daripada kerosakan lampu
Dalam sistem pengeluaran wafer yang memerlukan kapasiti tinggi, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah kecil atau gangguan sementara. Ia merupakan bencana sebenar. Jika tiub kuarsa pecah, bukan sahaja lampu tersebut tidak berfungsi lagi, tetapi serpihan kaca dan zarah logam juga akan berselerak di atas wafer tersebut.

Itu merupakan situasi yang sangat berbahaya. Itulah sebabnya kami mencipta lampu inframerah khusus untuk bilik bersih, agar dapat mencegah kekacauan seperti ini daripada berlaku.

Pemanas untuk bilik bersih semikonduktor

Sun, 28 Jun 2026 05:41:19 +0800

Di bilik keluli yang digunakan untuk proses litografi, anda pasti tahu betapa cepatnya perubahan suhu pada bahan fotoresist boleh menyebabkan variasi ketebalan garisan yang dihasilkan. Sekiranya proses pemanasan tidak dilakukan dengan tepat, seluruh kumpulan produk tersebut akan terbuang. Kami telah mencipta pemanas khusus untuk bilik keluli ini agar variasi suhu dapat dikurangkan. Pemanas ini memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses pemanasan, supaya bahan fotoresist menerima suhu yang sama setiap kali proses berulang.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek untuk pemanasan yang cepat dan terarah, dengan penggunaan udara yang minimum. Kestabilan suhu di permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, manakala ketepatan proses pemanasan pula kekal pada ±0.05°C dari satu proses ke proses yang lain. Kawalan suhu dilakukan dengan kadar 2°C/s, dengan pengurusan yang baik terhadap fluktuasi suhu. Badan pemanas ini direka khas untuk bilik keluli kelas 1–100: bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berbahaya, sambungan antara komponen pemanas sangat kuat, dan permukaannya tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh merosakkan produk. Dengan ini, jumlah zarah di udara dapat dikawal dengan baik.