Lampu pembakaran dalam suasana terkawal

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

Di ruang proses litografi ini, kita berdua tahu bahawa proses pembakaran tersebut bukan sekadar proses pemanasan semata-mata – ia juga mempengaruhi kualiti hasil pengeluaran. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran akan menyebabkan perbezaan ketara pada ketebalan lapisan fotolitograf tersebut. Sementara itu, titik panas yang terjadi semasa proses pembakaran boleh merosakkan kualiti wafer secara serius. Oleh itu, kami mencipta lampu pembakaran yang dikawal dengan baik untuk mengurangkan variasi tersebut.

Apa yang penting di sebaliknya
Lampu ini menggunakan sinar inframerah pendek yang beroperasi dalam selubung kuarsa. Sinar ini diselaraskan agar pemanasan berlaku dengan cepat di permukaan wafer, tanpa menyebabkan masalah yang tidak diinginkan. Kita dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Selain itu, kita juga memantau konsistensi proses pembakaran dari masa ke masa, bukan hanya untuk setiap sesi pengeluaran sahaja. Udara di dalam ruang pemprosesan dikawal dengan teliti, supaya profil pemanasan tetap konsisten, sama ada menggunakan udara N₂, udara kering, atau campuran oksigen yang rendah.

Lampu untuk proses pembakaran lembut bahan photoresist

Fri, 26 Jun 2026 05:04:06 +0800

Di bahagian proses litografi, proses “soft bake” bukan sekadar langkah pemanasan biasa. Ia merupakan syarat penting yang membantu menstabilkan profil bahan fotoresist, menghilangkan cecair berlebihan, serta mengawal ketebalan garisan pada permukaan wafer. Apabila lampu tersebut mula berfungsi dengan tidak efektif, ia akan dapat dikesan dengan cepat – contohnya, adanya endapan di tepi permukaan wafer, atau masalah lain yang boleh merosakkan wafer sebelum proses pengukuran dilakukan. Kami telah mencipta lampu “soft bake” khas untuk mengatasi masalah ini.

Bakar on Professional IR Heating Lamps

Lampu pembakaran dalam suasana terkawal

Lampu untuk proses pembakaran lembut bahan photoresist