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		<title>CMP on Professional IR Heating Lamps</title>
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				<title>CMP 후 웨이퍼 건조 히터</title>
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				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;CMP 후 웨이퍼 건조 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;CMP 공정 이후의 건조 단계에서는 미세한 수분 방울들이 남게 되는데, 만약 건조 과정에서 온도가 변동한다면 이러한 수분 방울들이 결함으로 변질될 수 있습니다. 온도가 단 1도만 변해도 다음 가열 과정에서 포토레지스트의 성능이 변하게 됩니다. 또한 가열 과정에서 입자가 발생하면 생산 효율이 저하됩니다. 따라서 열이 적절한 수준을 유지하면서도 깨끗한 상태를 유지하는 것이 중요합니다.&lt;/p&gt;</description>
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