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		<title>할로겐 on Professional IR Heating Lamps</title>
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				<title>웨이퍼 건조용 할로겐 IR 방출기</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 건조용 할로겐 IR 방출기&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;300 mm 라인에서 스핀 드라이어가 사이클을 마쳐도 웨이퍼가 여전히 젖어 있는 경우가 발생한다. 패턴 내부에 갇힌 물, 가장자리의 물 방울 현상 등이 그 예다. 기존의 핫플레이트를 사용하면 온도 상승이 느리고 불균일해 물방울이 남을 위험이 있다. 빠른 공기 블로우오프를 시도하면 입자가 유입될 가능성이 있다. 어느 쪽이든 다음 리소그래피 레이어는 미세 오염물 하나로 수율 저하 위험에 노출된다.&lt;br&gt;&#xA;웨이퍼 건조는 단순한 부수 공정이 아니다. 반복 가능하고 청정하며 비용을 고려한 열 프로파일을 갖춘 제어된 수분 제거 단계다. 포토레지스트 처리에서 잔류 수분은 소프트 베이크와 하드 베이크 모두에 영향을 주며, 치수 제어와 사이드월 프로파일에 편차를 발생시킨다. 열원은 빠르게 목표 온도에 도달해야 하며, 웨이퍼 전체에 균일하게 유지되고 오염을 추가하지 않아야 한다.&lt;/p&gt;</description>
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