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		<title>산화 on Professional IR Heating Lamps</title>
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				<title>와이퍼 산화 가열 소자</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;와이퍼 산화 가열 소자&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;반도체 제조 공장에서는, 아주 작은 온도 변동도 큰 문제로 이어질 수 있다는 것을 금방 깨닫게 됩니다. 산화 과정에서 웨이퍼의 온도가 0.5°C만 변해도 게이트 산화막의 무결성에 악영향을 줄 수 있습니다. 리소그래피 과정에서도, 몇 도만 온도가 달라져도 선의 굵기에 변화가 생깁니다. 열적 안정성은 단순히 바람직한 요소가 아니라, 반드시 지켜져야 하는 과정상의 요건입니다.&lt;/p&gt;</description>
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