<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CMP on Professional IR Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/tags/cmp/</link>
		<description>Recent content in CMP on Professional IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/tags/cmp/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>CMP後ウェーハ乾燥ヒーター</title>
				<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;CMP後ウェーハ乾燥ヒーター&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;CMP後の&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;洗浄工程&lt;/a&gt;では、微小な水滴が残ります。もし乾燥プロセスにバラつきがあれば、それらの水滴が欠陥の原因となります。温度を1度でも変えるだけで、次の焼成処理におけるフォトレジストの挙動が変わってしまいます。加熱中に粒子が発生すれば、歩留まりが低下します。したがって、適切な温度管理が不可欠です。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;内部で重要なのは何か&lt;/strong&gt;&#xA;私たちは、CMP後の狭い範囲内でしか機能しないという条件に合わせてこのヒーターを設計しました。ハロゲンランプは迅速かつ安定した温度制御を実現し、石英ガラス製の窓によってチャンバーがランプ本体から隔離されるため、粒子数も抑えられます。ウェーハ全体の温度均一性は±0.1℃以内であり、繰り返し実施時の再現性は±0.2℃以下です。ソフトベイクでもハードベイクでも、設定値は厳密に制御されるため、重要な&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;寸法&lt;/a&gt;や形状が維持されます。このシステムはクリーンルームクラス1～100に対応しており、すべての材料はガス放出や粒子の発生を最小限に抑えるために選ばれています。電力もプラットフォームに合わせて調整されており、インターフェースも既存の装置に簡単に接続できるようになっています。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
