http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/tags/%E8%96%84%E5%8C%96/ Recent content in 薄化 on Professional IR Heating Lamps Hugo ja Wed, 17 Jun 2026 15:51:30 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/posts/wafer-thinning-heating-infrared/ Wed, 17 Jun 2026 15:51:30 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/ja/posts/wafer-thinning-heating-infrared/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="ウェーハ薄化加熱赤外線"></p> <p>ウェーハの薄化処理は、熱に敏感なプロセスです。適切な熱管理が行われないと、シリコンが割れてしまいます。また、表面の<a href="https://o-yate.net">温度</a>が2℃変動するだけでも、応力の不均一が生じ、その結果、歩留まりの低下につながります。私たちは、このような制約を考慮して赤外線加熱装置を設計しました。つまり、ウェーハに与える熱を精密かつ迅速に、再現性良く供給する仕組みです。</p> <p>重要なのは、物理的な原理と制御方法です。このシステムは、シリコンが強く吸収する波長の<a href="https://goldisgood.com">近赤外線</a>を使用するため、エネルギーが迅速にウェーハに伝達され、基板の加熱は最小限に抑えられます。温度はリアルタイムで測定され、チャック全体で±0.1℃の範囲内に保たれます。これにより、薄化処理後のソフトベイクやハードベイクの工程でも、より厳密なプロセス管理が可能になります。クリーンルーム環境も重要であり、材料やシール材によって粒子の発生をほぼゼロに抑え、ISOクラス5の基準を容易に満たすことができます。</p>