http://ir-heat-lamp-pro.com/it/tags/post/ Recent content in Post on Professional IR Heating Lamps Hugo it Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/it/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/it/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Riscaldatore per essiccazione dei wafer dopo la CMP"></p> <p>Durante la fase di lavaggio post-CMP, rimangono delle micro-gocce d’acqua sul wafer; queste, se il processo di essiccazione non è corretto, possono trasformarsi in difetti. Anche un cambiamento di temperatura di appena un grado può influire negativamente sul comportamento del fotoresist durante il successivo processo di essiccazione. Inoltre, la presenza di particelle durante il riscaldamento riduce ulteriormente la qualità del prodotto finito. È quindi necessario che la temperatura rimanga entro i limiti previsti e che l’ambiente sia pulito.</p>