Riscaldatore a diodo laser a semiconduttore

Sat, 20 Jun 2026 05:51:26 +0800

Sul fondo litografico, la fase di essiccazione del fotoretardante richiede grande attenzione: anche un piccolo cambiamento di temperatura di 1°C durante l’essiccazione può influenzare le dimensioni critiche del wafer e alterarne la struttura superficiale. Inoltre, quando il wafer è esposto a flussi termici non uniformi, ne derivano conseguenze negative: perdita di resa, necessità di ripetute operazioni di lavorazione, e persino lo spreco di intere serie di wafer. Abbiamo progettato i nostri riscaldatori a base di diodi laser in modo che la temperatura del wafer rimanga entro i limiti di ±0,1°C; questa è infatti la tolleranza consentita dal processo di produzione.

Laser on Professional IR Heating Lamps

Riscaldatore a diodo laser a semiconduttore