Essiccazione on Professional IR Heating Lamps

Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

Sat, 11 Jul 2026 08:54:03 +0800

Fermare i frammenti: mantenere pulite le wafer durante il processo di essiccazione a infrarossi
Se si produce sensore MEMS, si sa bene che è proprio nella fase di essiccazione che possono verificarsi dei problemi. Immaginate questo scenario: una lampada a infrarossi si rompe sotto un carico eccessivo. Improvvisamente, frammenti di vetro e filamenti di tungsteno finiscono sulle wafer. È un incubo. Una sola lampada rotta può distruggere l’intera produzione.

Abbiamo dedicato molto tempo per trovare soluzioni per evitare che ciò accada.

Riscaldatore per essiccazione dei wafer dopo la CMP

Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800

Durante la fase di lavaggio post-CMP, rimangono delle micro-gocce d’acqua sul wafer; queste, se il processo di essiccazione non è corretto, possono trasformarsi in difetti. Anche un cambiamento di temperatura di appena un grado può influire negativamente sul comportamento del fotoresist durante il successivo processo di essiccazione. Inoltre, la presenza di particelle durante il riscaldamento riduce ulteriormente la qualità del prodotto finito. È quindi necessario che la temperatura rimanga entro i limiti previsti e che l’ambiente sia pulito.

Lampada per l essiccazione dei wafer delle celle solari

Tue, 23 Jun 2026 00:04:18 +0800

Nelle linee di produzione per wafer solari, la fase di essiccazione non è semplicemente un processo passivo da verificare: rappresenta infatti l’ultimo step termico prima che venga garantita l’integrità del disegno impresso sul wafer. Se si lascia anche solo un po’ di umidità, o se il profilo di cottura non viene mantenuto stabile durante la fase di essiccazione, si rischiano problemi come formazione di strati superficiali sulla fotorestist, difetti ai bordi del wafer e variazioni nelle dimensioni dello stesso. La lampada per l’essiccazione dei wafer solari è stata progettata apposta per eliminare queste variabili.