Nel reparto di litografia, sappiamo entrambi che i passaggi legati al riscaldamento dei wafer non sono semplicemente processi termici: rappresentano invece elementi fondamentali per determinare la qualità dei wafer stessi. Una variazione di 2°C durante il riscaldamento comporta immediatamente un aumento della dispersione del CDU. Un punto caldo durante il riscaldamento intenso? È un fattore negativo che provoca una riduzione della qualità del wafer. Abbiamo quindi creato una lampada per il riscaldamento in atmosfera controllata, al fine di eliminare tali variabilità.
Cosa è importante dal punto di vista tecnico
La lampada utilizza radiazioni infrarosse a onde corte, contenute in un involucro di quartzo. Questo permette un riscaldamento rapido e uniforme della superficie del wafer, senza alcun rischio di superamento dei limiti consentiti. Riusciamo a mantenere un’omogeneità di temperatura pari a ±0,1°C su tutta la superficie del wafer. Inoltre, monitoriamo la ripetibilità dei risultati per ogni lotto prodotto, non solo per ogni singola operazione. L’atmosfera all’interno della stanza di produzione è controllata con precisione, quindi il profilo di riscaldamento rimane costante, indipendentemente dal tipo di gas utilizzato (N₂, aria secca o miscela a basso contenuto di ossigeno).
La struttura della stanza di produzione è progettata fin dall’inizio per funzionare in condizioni di classe 1–100, senza generare particelle dannose provenienti dalla lampada stessa. Il sistema termico è progettato per funzionare 24/7, e monitoriamo la stabilità delle prestazioni della lampada per oltre 5.000 ore di utilizzo.
Perché è utile nel processo di trattamento del fotoresist
L’accuratezza della temperatura è fondamentale per evitare problemi durante il processo di produzione. Grazie a questo sistema, si ottiene un controllo più preciso del CDU, riducendo i difetti legati alla sfocatura e ad altre irregolarità. Inoltre, lo spessore del film fotoreattivo rimane costante dopo il riscaldamento. Il “campo di operazione” diventa quindi più ampio, poiché non ci sono più problemi legati alle differenze di temperatura tra le varie parti del wafer.
Inoltre, si riduce anche il consumo energetico: la temperatura desiderata viene raggiunta rapidamente e mantenuta costante, senza oscillazioni. Inoltre, i tempi di inattività diminuiscono, poiché la lampada funziona senza problemi improvvisi; le sostituzioni vengono programmate in base a dati precisi, e non grazie all’intuizione.
Cosa bisogna prendere in considerazione
La lampada richiede un’alimentazione energetica dedicata e un sistema di fornitura di gas adeguati alle specifiche dell’apparecchiatura. L’installazione è semplice, ma è necessario verificare nuovamente il profilo di riscaldamento ogni volta che si cambia la dimensione del wafer, la tipologia del fotorestatto o le condizioni di riscaldamento. Si consiglia di effettuare dei test preliminari per definire correttamente i parametri di funzionamento e verificare l’omogeneità dei risultati su tutti i tipi di prodotti.