Lampu pemanggang dengan atmosfer terkendali

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

Di area litografi ini, kita berdua tahu bahwa proses pemanasan bukan sekadar proses termal semata—proses tersebut justru mempengaruhi kualitas hasil produksi. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan akan langsung berdampak pada penyebaran ketebalan lapisan fotorezist. Adapun titik panas yang terjadi selama proses pemanasan keras, itu merupakan faktor yang merusak kualitas wafer. Kita menciptakan lampu pemanas berupa lingkungan berudara terkontrol untuk menghilangkan variabilitas tersebut.

Apa yang penting dalam proses ini Lampu tersebut menggunakan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, dan ditempatkan dalam selubung kuarsa. Hal ini memungkinkan pemanasan yang cepat di permukaan wafer, tanpa terjadi kelebihan panas. Di zona pemanasan, kita menjaga keseragaman suhu pada tingkat ±0,1°C, serta memantau konsistensi hasil pemanasan untuk setiap batch produk. Udara di dalamnya dikendalikan dengan baik, sehingga profil pemanasan tetap konsisten, baik saat menggunakan N₂, udara kering, maupun campuran oksigen yang rendah.

Lampu pemanggang lembut untuk photoresist

Fri, 26 Jun 2026 05:04:06 +0800

Di fasilitas litografi, proses pemanasan ringan bukan sekadar langkah pemanasan awal saja. Proses ini merupakan kondisi penting yang digunakan untuk menetapkan profil fotorezistan, menghilangkan zat pelarut, serta mengontrol ketebalan garis pada permukaan wafer. Ketika lampu mulai tidak berfungsi dengan baik, hal tersebut akan segera terasa—adanya endapan di tepi-tepi permukaan wafer, masalah di titik-titik tertentu, dan gangguan lainnya yang dapat merusak wafer jauh sebelum proses metrologi mendeteksinya. Kami merancang lampu pemanasan ringan ini agar bisa menghilangkan faktor-faktor yang menyebabkan ketidakteraturan tersebut.

Panggang on Professional IR Heating Lamps

Lampu pemanggang dengan atmosfer terkendali

Lampu pemanggang lembut untuk photoresist