Pemanas pengering wafer setelah proses CMP

Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800

Pada proses pembersihan setelah CMP, tetesan mikro yang tersisa akan berubah menjadi cacat jika proses pengeringan tidak berjalan dengan tepat. Jika suhu naik sedikit saja, perilaku bahan fotoresist pun akan berubah. Penambahan partikel selama proses pemanasan juga akan merusak kualitas hasil produksi. Diperlukan suhu yang tetap stabil dan terkendali.

Apa yang penting dalam sistem ini Kami merancang pemanas ini sesuai dengan persyaratan spesifik yang diperlukan setelah proses CMP. Lampu halogen memberikan respons yang cepat dan stabil, sementara jendela kaca kuarsa melindungi ruang kerja dari gangguan dari bagian lampu itu sendiri, sehingga jumlah partikel tetap rendah. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dapat dipertahankan pada kisaran ±0,1°C, dengan tingkat repetibilitas yang lebih baik lagi, yaitu ±0,2°C. Pengaturan suhu dilakukan dengan presisi tinggi, sehingga dimensi dan profil wafer tetap stabil. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang kerja kelas 1–100, dan setiap komponen dipilih agar meminimalkan emisi gas dan partikel. Daya yang digunakan disesuaikan dengan karakteristik platformnya, dan antarmuka sistem dirancang agar dapat digunakan langsung pada peralatan yang sudah ada.

CMP on Professional IR Heating Lamps

Pemanas pengering wafer setelah proses CMP