Pada lantai litografis, proses pemanasan bahan fotoresist memang tidak boleh diabaikan begitu saja. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan akan mempengaruhi dimensi kritis bahan tersebut dan merusak bentuk dinding sampingnya. Jika wafer mengalami ketidakteraturan suhu, hal ini akan berdampak buruk—berupa penurunan hasil produksi, kebutuhan untuk melakukan proses perbaikan ulang, atau bahkan pembuangan seluruh batch produk tersebut. Kami merancang pemanas berbasis laser diode semikonduktor agar suhu wafer tetap stabil dalam kisaran ±0,1°C, karena itulah batas toleransi yang dapat diterima oleh proses produksi.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami menggunakan sumber laser diode NIR dengan sistem kontrol loop tertutup, sehingga panas yang dihasilkan bersifat lokal dan tidak menyebabkan bagian-bagian tertentu pada wafer menjadi terlalu panas. Dengan demikian, suhu di area pemanasan tetap stabil dalam kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya tetap dalam kisaran ±0,05°C antar batch produk. Platform ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1 hingga kelas 100, dengan bahan-bahan dan permukaan yang dipilih sedemikian rupa sehingga tidak ada partikel yang terbentuk selama proses pemanasan dan pendinginan. Pasokan daya juga tetap stabil sepanjang waktu; unit-unit ini telah beroperasi lebih dari 5.000 jam tanpa penurunan kinerja lebih dari 5%.
Mengapa hal ini penting dalam proses pengolahan bahan fotoresist? Akurasi suhu sangat penting untuk proses penghilangan pelarut, proses kross-linking, serta peningkatan ketahanan bahan terhadap proses etching. Dengan pemanas berbasis laser diode, suhu dapat dikontrol dengan baik pada setiap tahap pemanasan, sehingga variasi dimensi kritis bahan berkurang dan tekstur permukaan bahan pun terkendali. Selain itu, siklus pemanasan menjadi lebih singkat berkat respons termal yang cepat, penggunaan energi yang lebih rendah karena daya yang disuplai tetap stabil, serta minimnya gangguan selama proses pemeliharaan. Peralatan ini dapat digunakan langsung dalam modul pelapisan dan pemanasan yang sudah ada, sehingga Anda tetap bisa mempertahankan kapasitas produksi sambil meningkatkan kontrol prosesnya.
Apa yang perlu Anda persiapkan? Yang perlu diperhatikan adalah penyesuaian jalur optik agar sesuai, serta memastikan bahwa sistem ventilasi dan pendinginan berfungsi dengan baik. Pemanas akan berfungsi secara optimal jika kondisi bagian belakang substrat tetap konsisten—film, sisa-sisa zat kimia, atau kelengkungan substrat dapat mempengaruhi proses transfer panas. Lakukan uji coba singkat untuk mengetahui pola suhu pada wafer tertentu, lalu aturlah sistem kontrol agar sesuai dengan kecepatan produksi Anda.