दीपक on Professional IR Heating Lamps

फैब लैंप के लिए क्वार्ट्ज ग्लास कवच

Sat, 06 Jun 2026 04:02:22 +0800

फ़ैब फ्लोर पर, फोटोरेसिस्ट बेक केवल एक और चरण नहीं है। यह दरवाज़ा है। एक तापमान उतार-चढ़ाव, एक कण घटना, और आप बहुत से वेफ़र्स खो सकते हैं। हमने फ़ैब लैम्प्स के लिए एक क्वार्ट्ज ग्लास शील्ड बनाया है ताकि वह दरवाज़ा बंद रहे, शिफ्ट दर शिफ्ट।

क्या महत्वपूर्ण है

यह उच्च-शुद्धता वाला फ्यूज्ड क्वार्ट्ज है, जिसे शॉर्ट-वेव और मीडियम-वेव IR में स्थिर ट्रांसमिशन के लिए चुना गया है, और क्लीनरूम हवा में कम आउटगैसिंग के कारण शांत बने रहने के लिए। यह शील्ड लैम्प आउटपुट को स्थिर रखता है जबकि फिलामेंट और ऑप्टिक्स को कोटिंग ड्रिफ्ट और कणों से बचाता है। वेफ़र के पूरे क्षेत्र में तापीय समानता सख्त बनी रहती है, जिससे आपके सॉफ्ट बेक और हार्ड बेक विंडो स्थिर रहते हैं, प्रोफ़ाइल नियंत्रण दोहराने योग्य होता है। यह Class 1–100 वातावरण में चलता है बिना कणों की संख्या बढ़ाए, और डिजाइन तेज़ तापीय साइकलिंग को माइक्रो क्रैकिंग के बिना सहन करता है।

वाटरप्रूफ इन्फ्रारेड लैंप रिन्स के लिए

Fri, 05 Jun 2026 04:08:20 +0800

गीले बेंच पर तापीय ग्रेडिएंट

गीले बेंच पर, उन रिंस-प्रेरित तापीय ग्रेडिएंट शांत प्रकार के होते हैं—वे जो चुपचाप उत्पादन को कम करते हैं। मानक हीटर बिना किनारे की बूँदें छोड़े या फोटोरेसिस्ट पर तनाव डाले, वेफर्स को साफ-सुथरा नहीं सूखा सकते। जब तापीय एकरूपता भटकती है, तो उत्पादन रुक जाता है। बस।

इन्फ्रारेड हीटिंग के साथ उप-मिलीमीटर तापीय नियंत्रण हमने रिंस चरण के लिए अपने जलरोधक इन्फ्रारेड लैंप को शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड के चारों ओर बनाया, ताकि तापीय क्षेत्र को उप-मिलीमीटर पैमाने तक नियंत्रित किया जा सके। उत्सर्जक ऐरे को तेज प्रतिक्रिया और पुनरावृत्त तापमान प्रोफाइल के लिए ट्यून किया गया है, सक्रिय सतह पर वेफर-स्तरीय एकरूपता को ±0.1°C के भीतर बनाए रखता है। यह कोई प्रयोगशाला संख्या नहीं है—यह नियंत्रित स्पेक्ट्रल आउटपुट, सटीक लैंप-से-वेफर दूरी, और बंद-लूप तापीय प्रबंधन से आता है।

उन्नत पैकेजिंग इन्फ्रारेड लैंप

Tue, 02 Jun 2026 06:06:46 +0800

On the advanced packaging floor, the thermal budget is razor-thin. A 2°C swing during photoresist bake can throw off critical dimensions, and the price of rework is measured in scrapped wafers. We built this infrared lamp to keep that thermal envelope nailed down—within spec, cycle after cycle.
What matters under the hood
It uses near-infrared (NIR) emitters for rapid, direct heating with sub-second response. Across the bake zone, wafer-level uniformity holds at ±0.1°C, so soft bake and hard bake profiles stay repeatable lot after lot. It’s cleanroom-ready for Class 1–100, with zero particle generation and a sealed, low-outgassing assembly. Output stays stable over 5,000+ hours, with less than 5% intensity drift—so the thermal budget stays consistent across your lithography stacks.
Why it earns its keep in packaging
The cadence is relentless: coat photoresist, soft bake, expose, develop, hard bake, then etch. This lamp holds bake temperature tightly, which cuts down linewidth variation and the scumming you see when the resist is underbaked. The fast ramp shortens cycle time without giving up profile control, and you use less energy because the emitter heats the wafer directly instead of the chamber. Fewer excursions, less scrap, and throughput you can bank on.
A few practical notes
The lamp drops into existing tracks, but you need to align the emitter zone carefully to the wafer path. Run a short qualification to lock in your soft bake and hard bake recipes, and confirm the cooling airflow hits your exhaust limits. Once it’s set, keep it on a preventive maintenance schedule—reflector cleanliness and temperature calibration have to stay in spec.