http://ir-heat-lamp-pro.com/hi/tags/%E0%A4%89%E0%A4%A4%E0%A5%8D%E0%A4%B8%E0%A4%B0%E0%A5%8D%E0%A4%9C%E0%A4%95/ Recent content in उत्सर्जक on Professional IR Heating Lamps Hugo hi Mon, 01 Jun 2026 02:30:16 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/hi/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/ Mon, 01 Jun 2026 02:30:16 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/hi/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="वाफर सुखाने के लिए हैलोजन आईआर एमिटर"></p> <p>300 mm लाइन पर, स्पिन ड्रायर चक्र समाप्त हो जाता है लेकिन वेफर अभी भी गीला रहता है—फीचर्स में फंसा हुआ पानी, किनारों पर पानी की बूंदें। पारंपरिक हॉट प्लेट से इसे गर्म करने पर धीमा, असमान तापमान वृद्धि होती है जो बूंदों को पीछे छोड़ जाती है। तेज़ एयर ब्लो-ऑफ का उपयोग किया तो पार्टिकल्स आने का खतरा होता है। दोनों ही मामलों में, अगली लिथोग्राफी परत माइक्रोकंटेमिनेंट से यील्ड प्रभावित हो सकती है।<br> वेफर सुखाने का काम &ldquo;अच्छा हो तो अच्छा&rdquo; नहीं है। यह एक नियंत्रित नमी हटाने की प्रक्रिया है जिसमें थर्मल प्रोफाइल को पुनरावृत्ति योग्य, स्वच्छ और लागत-समझदार रखना आवश्यक है। फोटोरेसिस्ट प्रोसेसिंग में, बची हुई नमी सॉफ्ट बेक और हार्ड बेक दोनों को प्रभावित करती है, जिससे क्रिटिकल डाइमेंशन कंट्रोल और साइडवॉल प्रोफाइल पर असर पड़ता है। हीट स्रोत को तापमान तेजी से पहुंचाना होता है, वेफर पर समान रूप से तापमान बनाए रखना होता है और संदूषण नहीं जोड़ना होता।</p>