http://ir-heat-lamp-pro.com/he/tags/%D7%A4%D7%95%D7%A1%D7%98/ Recent content in פוסט on Professional IR Heating Lamps Hugo he Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/he/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/he/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="חיממן לייבוש שבבים לאחר תהליך CMP"></p> <p>בשלב לאחר ה-CMP, הרחצה שנעשית לאחר מכן יוצרת טיפות זעירות, שעלולות להפוך לפגמים אם פרופיל הייבוש משתנה. שינוי של מעט יותר ממעלה אחת בטמפרטורה עלול לגרום לשינוי בהתנהגות החומר הפוטורזיסטי במהלך הייבוש. בנוסף, יצירת חלקיקים במהלך החימום עלולה לפגוע באיכות המוצר. יש צורך בחום שנשאר בגבולות המותרים, ושהסביבה תהיה נקייה.</p> <p><strong>מה חשוב בפועל?</strong> יצרנו את החיממן הזה עבור הדרישות הקפדניות של שלב לאחר ה-CMP. נורות ההלוגן מספקות תגובה מהירה ויציבה, והחלון העשוי קוורץ מבודד את החדר מגוף הנורה, כך שמספר החלקיקים נשאר נמוך. האחידות של הטמפרטורה על פני הוואפר נשמרת בטווח של ±0.1°C, והשגרתיות של התהליך טובה יותר – בטווח של ±0.2°C. נקודות הטמפרטורה נשלטות בצורה קפדנית, כך שהממדים והפרופילים של הוואפר נשארים קבועים. המערכת מתאימה לחדרים נקיים מסוג Class 1–100, וכל בחירת החומרים נעשית כדי למזער את פליטת הגזים ואת החלקיקים. ההספק של המערכת מותאם לפלטפורמה, והאינטרפייס שלה מאפשר התקנה ישירה במקומות הקיימים.</p>