Lampe infrarouge étanche pour rinçage

Fri, 05 Jun 2026 04:08:19 +0800

Sur le banc humide, ces gradients thermiques induits par le rinçage sont du type silencieux—ceux qui diminuent discrètement le rendement. Les chauffages standards ne peuvent tout simplement pas sécher les wafers proprement sans laisser de perles sur les bords ou stresser le photoresist. Lorsque l’uniformité thermique dérive, la ligne s’arrête. Point.

Contrôle thermique sub-millimétrique avec chauffage infrarouge
Nous avons construit nos lampes infrarouges étanches pour l’étape de rinçage autour de l’infrarouge à ondes courtes, de sorte que le champ thermique soit contrôlé jusqu’à l’échelle sub-millimétrique. L’array d’émetteurs est réglé pour une réponse rapide et des profils de température répétables, maintenant l’uniformité au niveau du wafer à ±0,1°C sur toute la surface active. Ce n’est pas un chiffre de laboratoire—il provient d’une sortie spectrale contrôlée, d’une distance précise lampe-wafer, et d’une gestion thermique en boucle fermée.
Dans le monde réel, cela signifie que vos conditions de préchauffage et de cuisson dure restent cohérentes, même après un cycle de rinçage agressif. Pas de surprises sur le photoresist.

Rincer on Professional IR Heating Lamps

Lampe infrarouge étanche pour rinçage