Capteur infrarouge à haute précision pour wafer

Mon, 27 Jul 2026 06:53:03 +0800

Pourquoi nous effectuons des tests de résistance sur chaque capteur IR
Lors de la fabrication des plaquettes de silicium, il suffit d’un petit arc électrique pour gâcher toute une série de produits. C’est une situation cauchemardesque. C’est pourquoi nous ne croyons pas aux contrôles aléatoires. Chaque lampe et chaque capteur qui quitte notre usine subit un test complet de résistance au voltage et de résistance isolante. Aucune exception.

Trouver les points faibles
Voici comment ça marche : nous soumettons ces composants à des tensions bien supérieures à celles qu’ils sont conçus pour supporter. En fait, nous essayons de les briser.
Pourquoi ? Parce que nous préférons détecter une microfissure dans le quartz ou une petite impureté dans le revêtement du capteur, ici même dans notre laboratoire, plutôt que de voir ce dernier tomber en panne dans votre machine. Si l’isolation cède ou si le courant de fuite augmente, le capteur est inutilisable. Nous le jetons alors.

Chaleur haute précision pour wafer IR

Sun, 31 May 2026 04:51:34 +0800

Sur le plancher de production, le cluster de lithographie continue de fonctionner sans interruption. La piste alimente le wafer, la couche de résine tourne, le bord du film est décapé, et la cuisson doit se dérouler dans une fenêtre thermique très étroite — à chaque passage. Un décalage de 1°C lors du soft bake ou du hard bake modifie la dimension critique, perturbe les courbes d’oscillation et réduit la marge de dose. Lorsque le module de cuisson ne parvient pas à maintenir l’uniformité sur le wafer, les effets sont immédiats : « footing », accumulation de résidus et perte de rendement visibles directement dans les bacs de tests électriques.

Précision on Professional IR Heating Lamps

Capteur infrarouge à haute précision pour wafer

Chaleur haute précision pour wafer IR