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		<title>Oxydation on Professional IR Heating Lamps</title>
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		<description>Recent content in Oxydation on Professional IR Heating Lamps</description>
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				<title>Élément chauffant par oxydation de la wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Élément chauffant par oxydation de la wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le site de fabrication, on apprend rapidement que de petites variations de température peuvent se transformer en gros problèmes. Une variation de 0,5 °C pendant l’oxydation peut nuire à l’intégrité de l’oxyde qui recouvre la surface du wafer. En lithographie, même une légère variation de température pendant le traitement thermique se traduit par des variations de largeur des lignes dessinées. La répétabilité thermique n’est pas un critère optional : c’est plutôt une exigence fondamentale du processus.&lt;/p&gt;</description>
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