Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

Sur le poste de lithographie, nous savons tous les deux que les étapes de chauffage ne sont pas simplement liées à la chaleur – elles influencent également le rendement du processus. Une variation de 2 °C pendant le chauffage doux se traduit immédiatement par une augmentation de l’écart de CDU. Quant aux points chauds lors du chauffage intensif, ils causent des pertes de rendement directement sur la structure de la puce. Nous avons donc conçu la lampe de chauffage en atmosphère contrôlée afin d’éliminer cette variabilité.

Lampe de séchage doux pour résist photo

Fri, 26 Jun 2026 05:04:05 +0800

Sur le poste de lithographie, le processus de chauffage doux n’est jamais simplement une étape de préchauffage. Il s’agit plutôt d’une condition essentielle qui permet de fixer les caractéristiques du photorésiste, d’éliminer les solvants et de contrôler l’épaisseur des lignes à dessiner par la suite. Lorsque la lampe commence à ne plus fonctionner correctement, on s’en rend compte rapidement : des défauts apparaissent aux bords, et les écarts de température endommagent les wafers bien avant même que les instruments de mesure ne le détectent. Nous avons conçu notre lampe de chauffage doux pour éliminer ces variations.

Cuire Au Four on Professional IR Heating Lamps

Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée

Lampe de séchage doux pour résist photo