<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>پست on Professional IR Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/fa/tags/%D9%BE%D8%B3%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in پست on Professional IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-lamp-pro.com/fa/tags/%D9%BE%D8%B3%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>گرمکن خشککن ویفر پس از CMP</title>
				<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/fa/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-lamp-pro.com/fa/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;گرمکن خشککن ویفر پس از CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در مرحله پس از CMP، شستشو با مواد خاص باعث ایجاد قطرات ریزی می‌شود؛ اگر فرآیند خشک کردن دچار تغییر شود، این قطرات می‌توانند به نقص‌هایی در سطح ویفر تبدیل شوند. حتی افزایش یک درجه در دما نیز می‌تواند باعث تغییر رفتار فوتورزیست در فرآیند خشک کردن شود. همچنین، وجود ذرات در حین گرم کردن نیز می‌تواند باعث کاهش کیفیت محصول شود. لازم است که دما در محدوده مشخصی باقی بماند و سطح ویفر تمیز باشد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
