Lámpara de cocción en atmósfera controlada

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

En la sala de litografía, ambos sabemos que los pasos de horneado no se reducen únicamente a procesos térmicos; también son factores que influyen en el rendimiento del producto final. Una variación de 2°C durante el horneado suave se refleja inmediatamente en una dispersión en las propiedades del CDU. ¿Y un punto caliente durante el horneado duro? Eso es un verdadero problema, ya que causa una disminución en el rendimiento del wafer. Por eso diseñamos la lámpara de horneado en atmósfera controlada para eliminar esa variabilidad.

Lámpara de horneado suave para fotoresistente

Fri, 26 Jun 2026 05:04:05 +0800

En la etapa de litografía, el proceso de “soft bake” no es simplemente un paso de calentamiento preliminar. Se trata de una condición crítica que permite fijar el perfil del fotorreactivo, eliminar los disolventes y establecer un control preciso sobre el ancho de las líneas que se van a crear posteriormente. Cuando la lámpara deja de funcionar adecuadamente, se nota rápidamente: aparecen burbujas en los bordes, se producen problemas en las interfaces, y las obleas se dañan mucho antes de que la metrología pueda detectarlo. Hemos diseñado nuestra lámpara para eliminar esa variabilidad.

Hornear on Professional IR Heating Lamps

Lámpara de cocción en atmósfera controlada

Lámpara de horneado suave para fotoresistente