Stoppen Sie den „Glasregen“: Bewahren Sie Ihre Wafer sauber, wenn die Lampen versagen In einer hochbelasteten Halbleiteranlage ist das Versagen einer...

Warum wir jeden einzelnen IR-Sensor auf Belastbarkeit prüfen Bei der Herstellung von Siliziumwafern reicht bereits ein winziger elektrischer Funke...

Umgang mit Lampenfehlern bei der Trocknung von Wafern Wenn man Wafern unter hohem Druck trocknet, bedeutet ein defekter Lampenverschluss nicht nur...

Reduzierung der Energiekosten – und des CO2-Ausstoßes – bei der Herstellung von Wafern Seien wir ehrlich: Halbleiterfabriken sind echte...

Das Halten der Temperaturen unter Kontrolle – und sicher halten Wenn man Wafern in einer chemischen Reinigungszone erhitzt, bewegt man sich im Grunde...

Verhindern Sie Schäden durch Splitter: Halten Sie Ihre Wafer während des IR-Trocknungsprozesses sauber Wenn Sie MEMS-Sensor produzieren, wissen Sie,...

Bei der Nach-CMP-Behandlung hinterlassen die verwendeten Heizgeräte Mikrodroplets auf dem Wafer. Diese können zu Defekten führen, falls das...

Bei der Trocknung von Wafern ist dies keine rein passive Prozessschritte – es handelt sich dabei vielmehr um die letzte Wärmebehandlung, bevor die...

In der Produktion lernt man schnell, dass kleine Temperaturunterschiede zu großen Problemen führen können. Eine Schwankung von 0,5 °C während des...

Bei der Dünnschichtung ist die Wärmebehandlung eine thermisch empfindliche Prozedur. Siliziumplatten brechen dabei, wenn die Wärmemenge nicht richtig...

Auf der 300 mm Linie fährt der Spin-Trockner herunter und der Wafer ist noch feucht – Wasser, das in Strukturen eingeschlossen ist, Wasserperlen an...

Auf der Fertigungsebene läuft der Lithographie-Cluster ununterbrochen weiter, ohne Pausenfunktion. Der Track führt das Wafer zu, der Resist dreht...