Trocknen on Professional IR Heating Lamps

Energieaudits für die Trocknung in Fabriken

Tue, 28 Jul 2026 05:21:13 +0800

Hören Sie auf, zuzulassen, dass Ihre Heizungen Ihre Wafer ruinieren!
In einem Reinraum der Klasse 100 reicht bereits ein winziger Staubkorn aus, um eine ganze Charge von Wafern unbrauchbar zu machen. Das ist ein Albtraum. Die meisten herkömmlichen Heizgeräte tragen dazu bei – sie geben Schadstoffe ab oder zerfallen nach einer Weile.
Deshalb verwenden wir hochreine synthetische Quarz-IR-Lampen. Diese nutzen Strahlungswärme – dadurch werden keine Schadstoffe über die Untergründe verteilt. Es handelt sich dabei einfach um reine, direkte Wärme.

Heizer zum Trocknen von MEMS Sensorwafers

Sat, 11 Jul 2026 08:54:01 +0800

Verhindern Sie Schäden durch Splitter: Halten Sie Ihre Wafer während des IR-Trocknungsprozesses sauber
Wenn Sie MEMS-Sensor produzieren, wissen Sie, dass die Trocknungsphase besonders kritisch ist – hier können schnell Probleme auftreten. Stellen Sie sich vor: Eine Infrarotlampe versagt unter hoher Belastung. Plötzlich regnen Glassplitter und Wolframfäden auf Ihre Wafer herab. Das ist ein Albtraum. Ein defekter Lampenstrang zerstört nicht nur einen einzelnen Teil – er zerstört auch die gesamte Charge.

Wir haben viel Zeit damit verbracht, herauszufinden, wie man diesem Problem entgegenwirken kann.

Heizer zum Trocknen von CMP Wafern nach der CMP Verarbeitung

Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800

Bei der Nach-CMP-Behandlung hinterlassen die verwendeten Heizgeräte Mikrodroplets auf dem Wafer. Diese können zu Defekten führen, falls das Trocknungsverhalten abweicht. Selbst eine Veränderung der Temperatur um einen Grad kann das Verhalten des Fotoresists während des nächsten Trocknungsprozesses verändern. Zudem führt die Bildung von Partikeln während des Erhitzungsprozesses zu einer Verringerung der Produktqualität. Es ist daher notwendig, dass die Temperatur innerhalb bestimmter Grenzen bleibt und gleichzeitig sauber bleibt.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben dieses Heizgerät für die engen Anforderungen nach der CMP-Behandlung entwickelt. Halogenlampen sorgen für eine schnelle und stabile Reaktion. Das Quarzfenster schützt den Behälter vor Einflüssen aus der Lampe – dadurch bleiben die Partikelzahlen niedrig. Die Temperaturhomogenität auf dem Wafer beträgt ±0,1 °C, wobei die Wiederholgenauigkeit zwischen den verschiedenen Prozessschritten besser als ±0,2 °C ist. Die Einsatzparameter werden genau gesteuert, sodass die kritischen Abmessungen und Profile konstant bleiben. Das System ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet. Jeder verwendete Material wird so ausgewählt, dass Ausgasungen und Partikelbildung minimiert werden. Die Leistung des Heizgeräts passt sich der jeweiligen Plattform an, und die Schnittstelle ist so gestaltet, dass sie direkt in vorhandene Anlagen integriert werden kann.

Lampe zum Trocknen von Solarzellwafeln

Tue, 23 Jun 2026 00:04:18 +0800

Bei der Trocknung von Wafern ist dies keine rein passive Prozessschritte – es handelt sich dabei vielmehr um die letzte Wärmebehandlung, bevor die Struktur der Wafer festgelegt wird. Selbst geringe Mengen an Feuchtigkeit oder Abweichungen im Trocknungsprozess können dazu führen, dass sich die Oberfläche des Photoresists verändert oder dass es zu Dimensionsschwankungen kommt. Die Trocknungsleuchten für Solarzellen sind dafür konzipiert, solche Schwankungen auszuschließen.

Was wirklich wichtig ist
Wir nutzen NIR-Emiter, um Energie schnell und direkt in die Wafer zu übertragen. Dadurch wird eine Verzögerung durch Wärmeübertragung vermieden und das Prozessfenster bleibt stabil. Das System gewährleistet eine Homogenität der Temperatur im aktiven Bereich von ±0,1 °C – dadurch bleiben die kritischen Trocknungsbedingungen immer konstant. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist ebenfalls ein wichtiger Aspekt: In Umgebungen der Klasse 1–100 entstehen keine Partikel durch die Leuchte. Zudem ist die Konstruktion der Quarz-/Reflektoreinheit so gestaltet, dass keine Gase freigesetzt werden, die den Photoresist kontaminieren könnten. Die Leistung der Leuchte bleibt über 5.000 Stunden hinweg konstant – mit weniger als 5 % Intensitätsabweichungen. Das bedeutet weniger Nachjustierungen und weniger unplanmäßige Stillstände.

Halogen IR Strahler zur Wafer Trocknung

Mon, 01 Jun 2026 02:30:14 +0800

Auf der 300 mm Linie fährt der Spin-Trockner herunter und der Wafer ist noch feucht – Wasser, das in Strukturen eingeschlossen ist, Wasserperlen an den Kanten. Eine konventionelle Heißplatte birgt das Risiko eines langsamen, ungleichmäßigen Aufheizens, das Perlen zurücklässt. Ein schneller Luftstoß erhöht die Partikelbelastung. In beiden Fällen ist die nächste Lithographieschicht nur einen Mikro-Kontaminanten vom Ertragsverlust entfernt.
Das Trocknen von Wafern ist kein „Nice-to-have“. Es ist ein kontrollierter Feuchtigkeitsentfernungsschritt mit einem thermischen Profil, das reproduzierbar, sauber und kostenbewusst sein muss. In der Photoresist-Verarbeitung beeinträchtigt Restfeuchtigkeit sowohl den Softbake- als auch den Hardbake-Prozess und führt zu Abweichungen in der kritischen Dimensionskontrolle und am Seitenwandprofil. Die Wärmequelle muss die Temperatur schnell erreichen, über den Wafer hinweg gleichmäßig bleiben und keine Kontamination verursachen.