http://ir-heat-lamp-pro.com/de/tags/post/ Recent content in Post on Professional IR Heating Lamps Hugo de Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/de/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:42 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/de/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Heizer zum Trocknen von CMP Wafern nach der CMP Verarbeitung"></p> <p>Bei der Nach-CMP-Behandlung hinterlassen die verwendeten Heizgeräte Mikrodroplets auf dem Wafer. Diese können zu Defekten führen, falls das Trocknungsverhalten abweicht. Selbst eine Veränderung der Temperatur um einen Grad kann das Verhalten des Fotoresists während des nächsten Trocknungsprozesses verändern. Zudem führt die Bildung von Partikeln während des Erhitzungsprozesses zu einer Verringerung der Produktqualität. Es ist daher notwendig, dass die Temperatur innerhalb bestimmter Grenzen bleibt und gleichzeitig sauber bleibt.</p> <p><strong>Was wirklich wichtig ist</strong><br> Wir haben dieses Heizgerät für die <a href="https://o-yate.net">engen</a> Anforderungen nach der CMP-Behandlung entwickelt. Halogenlampen sorgen für eine schnelle und stabile Reaktion. Das Quarzfenster schützt den Behälter vor Einflüssen aus der Lampe – dadurch bleiben die Partikelzahlen niedrig. Die Temperaturhomogenität auf dem Wafer beträgt ±0,1 °C, wobei die Wiederholgenauigkeit zwischen den verschiedenen Prozessschritten besser als ±0,2 °C ist. Die Einsatzparameter werden genau gesteuert, sodass die kritischen Abmessungen und Profile konstant bleiben. Das System ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet. Jeder verwendete Material wird so ausgewählt, dass Ausgasungen und Partikelbildung minimiert werden. Die Leistung des Heizgeräts passt sich der jeweiligen Plattform an, und die Schnittstelle ist so gestaltet, dass sie direkt in vorhandene Anlagen integriert werden kann.</p>